显微分光膜厚仪是结合显微镜与分光光度技术的高精度薄膜厚度测量仪器

更新时间：2025-09-03

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　　显微分光膜厚仪是一种基于光的干涉和分光原理的高精度测量仪器，主要用于非破坏性、非接触地测量薄膜、晶片、光学材料及多层膜的厚度，并分析其光学常数(如折射率、消光系数)。

　　通过显微光谱法测量微小区域的光谱反射率，当光线在薄膜前后表面多次反射形成干涉条纹时，分光技术将干涉条纹分解为不同波长的光谱，并测量其强度分布，通过算法计算膜厚及光学参数。

　　显微分光膜厚仪通过光的干涉与分光原理实现非破坏性、非接触式测量。当光线照射到薄膜表面时，在薄膜前后表面多次反射形成干涉条纹，分光技术将这些条纹分解为不同波长的光谱，通过测量光谱强度分布并结合算法计算，可准确获取薄膜厚度(1nm-35μm)、折射率(n)、消光系数(k)等参数。

　　通常由光学系统、检测系统、控制系统和样品台等部分组成。光学系统包括光源、分光器、反射物镜等，用于产生和传输光线，并将光线聚焦到样品表面；检测系统一般由探测器等组成，用于检测反射或透射光线的强度；控制系统负责仪器的操作和数据处理；样品台用于放置样品，并可实现样品的移动和定位。

　　使用注意事项

　　环境控制：避免阳光直射、高温潮湿环境，防止光学系统受潮或污染。

　　校准与维护：定期使用标准样品校准，清洁光学部件以延长寿命。

　　样品处理：测量前确保样品表面平整，避免粗糙度影响反射率数据。

　　数据安全：选择支持数据存储和传输(如USB、蓝牙)的型号，便于后续分析。

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