显微分光膜厚仪：基于光的干涉和分光原理的高精度光学测量仪器

更新时间：2026-02-04

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　　显微分光膜厚仪是一种高精度、非接触式的光学测量设备，主要用于测量微小区域内薄膜的厚度及光学常数(如折射率、消光系数)，广泛应用于半导体、光学材料、生物医用薄膜等领域的研发与质量控制。

　　当光线照射到薄膜表面时，会在薄膜的前后表面之间多次反射，形成干涉条纹。通过分光技术将这些干涉条纹分解为不同波长的光谱，并测量其强度分布，再利用相关算法(如FFT傅里叶法、极值法、拟合法)计算出薄膜的厚度、折射率等参数。

　　主要功能与特点：

　　‌非破坏性、非接触测量‌

　　可对各种薄膜、晶片、多层膜等材料进行测量，无需取样或破坏样品，特别适用于贵重或脆弱材料。

　　‌高精度与高速度‌

　　利用光的干涉和分光原理，通过分析反射光谱的干涉条纹，结合傅里叶变换(FFT)、极值法等算法，实现1秒/点的快速测量，重复性好，精度高。

　　‌微区测量能力‌

　　结合显微系统，可在微米级区域内进行准确测量，适合复杂结构或图案化样品(如晶圆)的局部膜厚分析。

　　‌多参数分析‌

　　除膜厚外，还能同时获取折射率、消光系数等光学常数，为材料性能研究提供数据支持。

　　使用注意事项

　　环境控制：避免阳光直射、高温潮湿环境，防止光学系统受潮或污染。

　　校准与维护：定期使用标准样品校准，清洁光学部件以延长寿命。

　　样品处理：测量前确保样品表面平整，避免粗糙度影响反射率数据。

　　数据安全：选择支持数据存储和传输的型号，便于后续分析。

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