显微荧光成像系统

简要描述：S-MPL系列显微荧光成像系统
光致发光（photoluminescence）即PL，是用紫外、可见或红外辐射激发发光材料而产生的发光，在半导体材料的发光特性测量应用中通常是用激光（波长如325nm、532nm、785nm等）激发材料（如 GaN、ZnO、GaAs等）产生荧光，通过对其荧光光谱（即PL谱）的测量，分析该材料的光学特性，如禁带宽度等。

产品型号：S-MPL系列
厂商性质：经销商
更新时间：2023-09-17
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S-MPL系列显微荧光成像系统简介

光致发光(photoluminescence)即PL，是用紫外、可见或红外辐射激发发光材料而产生的发光，在半导体材料的发光特性测量应用中通常是用激光（波长如325nm、532nm、785nm等）激发材料（如 GaN、ZnO、GaAs等）产生荧光，通过对其荧光光谱（即PL谱）的测量，分析该材料的光学特性，如禁带宽度等。光致发光可以提供有关材料的结构、成分及环境原子排列的信息，是一种非破坏性的、高灵敏度的分析方法，因而在物理学、材料科学、化学及分子生物学等相关领域被广泛应用。
传统的荧光光谱仪一般采用透镜收光的方式，针对发光非常微弱的纳米材料，即便用激光器激发，也很难获得较好的信号。结合多年的实际测样经验，我司推出了显微PL系统，采用显微物镜收光，较传统的荧光光谱仪其收光效率提升了至少3个数量级，因此特别适用于传统荧光系统难以检测到的微弱信号，另外其辅助的白光成像功能，还可以实现微区（微米级）定位测量。

应用领域：