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显微荧光成像系统

产品简介

S-MPL系列显微荧光成像系统
光致发光（photoluminescence）即PL，是用紫外、 可见或红外辐射激发发光材料而产生的发光，在半 导体材料的发光特性测量应用中通常是用激光（波 长如325nm、532nm、785nm等）激发材料（如 GaN、ZnO、GaAs等）产生荧光，通过对其荧光光谱（即PL谱）的测量，分析该材料的光学特性，如禁带宽 度等。

产品型号：S-MPL系列
更新时间：2025-04-23
厂商性质：生产厂家
访问量：1634
产品咨询 18117546256

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S-MPL系列显微荧光成像系统简介

  • 光致发光(photoluminescence)即PL，是用紫外、 可见或红外辐射激发发光材料而产生的发光，在半 导体材料的发光特性测量应用中通常是用激光（波 长如325nm、532nm、785nm等）激发材料（如 GaN、ZnO、GaAs等）产生荧光，通过对其荧光光谱（即PL谱）的测量，分析该材料的光学特性，如禁带宽 度等。光致发光可以提供有关材料的结构、成分及环境 原子排列的信息，是一种非破坏性的、高灵敏度的分析 方法，因而在物理学、材料科学、化学及分子生物学等 相关领域被广泛应用。
  • 传统的荧光光谱仪一般采用透镜收光的方式，针对发光 非常微弱的纳米材料，即便用激光器激发，也很难获得 较好的信号。结合多年的实际测样经验，我司推出了显 微PL系统，采用显微物镜收光，较传统的荧光光谱仪其 收光效率提升了至少3个数量级，因此特别适用于传统 荧光系统难以检测到的微弱信号，另外其辅助的白光成 像功能，还可以实现微区（微米级）定位测量。

应用领域：

  • 半导体材料
  • 二维材料
  • 纳米材料
  • 薄膜材料
  • 光波导器件
  • LD, LED外延片

产品特点：

  • 光谱范围：200-1700nm
  • 光斑大小：≤10μm（325nm激光、100X物镜）
  • 光谱分辨率：优于0.1nm
  • 白光成像分辨率：亚微米级
  • 激光器：266nm、325nm、360nm、405nm、488n- m、510nm、532nm、633nm、785nm等可选
  • 样品台：手动/电动可选
  • 采谱模式：单点扫描/线扫描可选

 S-MPL系列显微荧光成像系统系统功能：

  • 微区PL测量
  • 可同时配置多路激光器
  • 自由光路耦合，保障大光效率
  • 显微光路设计，保障大激发、收集效率
  • 高精度位移台，实现微米级定位测量

扩展功能：

  • 微区电致发光（EL）测量
  • 荧光寿命测量：ps-ms量级
  • 自动Mapping功能：50mm×50mm行程，步进精度 1μm
  • 光电流谱（成像）测量
  • 光电材料响应度测试
  • 变温附件：77K-600℃/4K、10K超低温

S-MPL系列显微荧光系统 

 

 

 

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