光电流成像

产品简介
光电流成像是一种用于表征材料或器件的光电特性的成像技术。该技术通过在器件或材料表面照射光源，并测量其产生的电流信号，来获得材料或器件的空间分布信息。

产品型号：S-LBIC

更新时间：2025-01-13

厂商性质：生产厂家

访问量：1799

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PRODUCT CLASSIFICATION

光谱系统

显微缺陷膜厚半导体晶圆缺陷检测仪高光谱测试系统瞬态吸收系统太阳能电池量子效率太阳光模拟器IV系统显微光电流成像系统探测器光响应度系统光谱变温附件探针台拉曼SERS增强试剂显微荧光系统组合荧光系统镜头透过率测试系统漫反射率测试系统反射、吸收率系统成像亮度计标准灯参考辐射定标电致发光系统常规发射光谱系统共聚焦拉曼光谱仪

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　　光电流成像是一种用于表征材料或器件的光电特性的成像技术。该技术通过在器件或材料表面照射光源，并测量其产生的电流信号，来获得材料或器件的空间分布信息。

　　主要原理：

　　光电流成像的原理是利用光子在材料或器件中的吸收和电子的漂移扩散，产生电流信号。测试时，通过在器件或材料表面照射激光束或其他光源，产生光电效应，并测量器件或材料表面的电流分布，从而获得其空间分布信息。根据电流分布的大小和特征，可以分析器件或材料的光电性能和特性参数。

　　主要应用：

　　(1)半导体器件测试：光电流成像主要应用于半导体器件的测试和分析，如光电二极管、太阳能电池等。

　　(2)光电器件测试：该技术还可以用于光电器件的测试和分析，如光电转换器、光电放大器等。

　　(3)材料研究：光电流成像还可以应用于材料的研究，如光敏材料、半导体材料等的光电性能测试。

　　(4)生物医学研究：该技术还可以应用于生物医学研究，如细胞、组织等的光电特性分析。

光电流成像

　　主要优势：

　　(1)高分辨率：光电流成像具有高分辨率的优势，可以实现微米级别的空间分辨率。

　　(2)非接触式：该技术采用非接触式成像方式，可以避免物理接触对材料或器件的损伤和变形。

　　(3)无污染：光电流成像无需使用化学药品和液体，不会产生二次污染。

　　S-LBIC显微光电成像系统简介

　　• 宽光谱范围(200~14000nm可选)，适用面广

　　• 调制法测量技术，提升测量结果信噪比

　　• 开机即用的Turnkey系统设计，维护简单

　　• 监视光路，方便样品定位

　　• 全反射光路设计，优化光斑质量

　　• 高稳定性光源，降低背景噪声影响

　　• 标准测量软件，数据导出格式支持第三方软件

　　显微光电成像系统应用领域：

　　• 二维材料，太阳能电池，纳米光子学，光电器件，PN结器件…

　　特点：

　　• 微米级空间分辨率

　　• 连续/脉冲激光可选

　　• 波长连续可调的超连续谱光源可选

　　• nA、pA、fA不同精度的源表可选

　　• 可以测量不同偏压下的光电流图像/光谱响应度

S-LBIC显微光电流成像系统

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