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PRODUCTS CNTER●非接触式、非破坏性光学式膜厚检测●采用分光干涉法实现高度检测再现性●可进行高速的即时研磨检测●可穿越保护膜、观景窗等中间层的检测●可对应长工作距离、且容易安裝于产线或者设备中●体积小、省空間、设备安装简易●可对应线上检测的外部信号触发需求●采用最适shi合膜厚检测的独自解析演算法。(已取得专zhuan利)●可自动进行膜厚分布制图(选配项目)
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即时检测
WAFER基板于研磨制程中的膜厚
玻璃基板(强酸环境中)于减薄制程中的厚度变化
SF-3 | |
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膜厚测量范围 | 0.1 μm ~ 1600 μm※1 |
膜厚精度 | ±0.1% 以下 |
重复精度 | 0.001% 以下 |
测量时间 | 10msec 以下 |
测量光源 | 半导体光源 |
测量口径 | Φ27μm※2 |
WD | 3 mm ~ 200 mm |
测量时间 | 10msec 以下 |
※1 随光谱仪种类不同,厚度测量范围不同
※2 最小Φ6μm
上海波铭科学仪器有限公司主要提供光谱光电集成系统、晶萃光学机械和光学平台、激光器、Edmund 光学元件、Newport 产品、滨松光电探测器、卓立汉光荧光拉曼光谱仪、是德 Keysight 电学测试系统、大塚 Otsuka 膜厚仪、鑫图科研级相机、Semilab 半导体测试设备及高低温探针台系统。经过多年的发展,上海波铭科学仪器有限公司在市场上已取得了一定的地位。我们的产品和服务在行业内具有较高的知zhi名度和美誉度,客户遍布全国。我们将继续努力,不断提升市场地位和影响力。
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