光电流成像是一种用于表征材料或器件的光电特性的成像技术。该技术通过在器件或材料表面照射光源,并测量其产生的电流信号,来获得材料或器件的空间分布信息。
S-DSR探测器光谱响应测试系统 • 宽光谱范围(200~14000nm可选),适用面广 • 调制法测量技术,提升测量结果信噪比 • 开机即用的Turnkey系统设计,维护简单 • 监视光路,方便样品定位 • 全反射光路设计,优化光斑质量 • 高稳定性光源,降低背景噪声影响 • 标准测量软件,数据导出格式支持第三方软件
光谱变温附件/探针台 THMS600 是使用.为广泛的高精度冷热台。其宽泛的温度范围(-196°C到 600°C)和升温速 率(0.1 到 150°C/min),以及高精度(全程 0.1°C)和高稳定(0.01°C),使其在各行业得 到广泛的应用。
QE-2000荧光量子效率测试系统瞬间测量绝.对量子效率。适用于粉末、溶液、固体(膜)、薄膜样品的测量。通过低杂散光多通道分光检出器,大大减少了紫外区域 的杂散光。
S-MPL系列显微荧光成像系统 光致发光(photoluminescence)即PL,是用紫外、 可见或红外辐射激发发光材料而产生的发光,在半 导体材料的发光特性测量应用中通常是用激光(波 长如325nm、532nm、785nm等)激发材料(如 GaN、ZnO、GaAs等)产生荧光,通过对其荧光光谱(即PL谱)的测量,分析该材料的光学特性,如禁带宽 度等。